Photoelektronenspektroskopie (XPS / ESCA)

Stärken der Technik

  • Quantitative Analyse der Oberfläche
  • Nachweis aller Elemente außer H und He
  • Identifizierung von Bindungs- und Oxidationszuständen
  • Anwendbar auf unterschiedlichste Probensysteme (Papiere, Polymere, Metalle, Gläser, ...)
  • Erstellung von Tiefenprofilen

Technische Daten

Nachweisbare Elemente: Li bis U; chemische Bindungszustände  
Nachweisgrenze: 0,01 - 1 At%, Sub-Monolagen
Quantifizierung: ja
Informationstiefe: ca. 5 - 10 nm
Laterale Auflösung: 3 µm - 2 mm
Besonderheiten: variable Probentemperatur zwischen 170 und 1000 °K

Weitergehende Informationen

Anwendungsbeispiele
Methodeninformationen (XPS / ESCA) [PDF, 120kB]
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