Photoelektronenspektroskopie (XPS / ESCA)
Stärken der Technik
- Quantitative Analyse der Oberfläche
- Nachweis aller Elemente außer H und He
- Identifizierung von Bindungs- und Oxidationszuständen
- Anwendbar auf unterschiedlichste Probensysteme (Papiere, Polymere, Metalle, Gläser, ...)
- Erstellung von Tiefenprofilen
Technische Daten
| Nachweisbare Elemente: | Li bis U; chemische Bindungszustände |
| Nachweisgrenze: | 0,01 - 1 At%, Sub-Monolagen |
| Quantifizierung: | ja |
| Informationstiefe: | ca. 5 - 10 nm |
| Laterale Auflösung: | 3 µm - 2 mm |
| Besonderheiten: | variable Probentemperatur zwischen 170 und 1000 °K |
Weitergehende Informationen
AnwendungsbeispieleMethodeninformationen (XPS / ESCA) [PDF, 120kB]
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