Photoelektronenspektroskopie (XPS / ESCA)

Stärken der Technik

  • Quantitative Analyse der Oberflächenzusammensetzung
  • Nachweis aller Elemente außer H und He
  • Identifizierung von Bindungs- und Oxidationszuständen, funktionellen Gruppen
  • Messung der Dicke von Oberflächenbelegungen im Bereich von 1 nm bis 10 nm
  • Anwendbar auf unterschiedlichste Probensysteme (Papiere, Polymere, Metalle, Gläser, ...)
  • Erstellung von Tiefenprofilen

Technische Daten

Nachweisbare Elemente:
Nachweisgrenze:
Quantifizierung:
Informationstiefe:
Laterale Auflösung:
Besonderheiten:
Li bis U; chemische Bindungszustände  
0,01 - 1 At%, Sub-Monolagen
ja
ca. 5 - 10 nm
3 µm - 2 mm
variable Probentemperatur zwischen 170 und 1000 °K

Weitergehende Informationen

Anwendungsbeispiele
Methodeninformationen (XPS / ESCA) [PDF, 120kB]

Bei weitergehenden Fragen sprechen Sie uns gerne an ...