XPS Analyse zur Oberflächenzusammensetzung

Die XPS Analyse ist ein sehr oberflächenempfindliches Verfahren, bei dem nicht nur fast alle Elemente quantitativ nachgewiesen werden können, sondern auch noch Bindungs- und Oxidationszuständen auf Festkörperoberflächen identifiziert werden können.

Das XPS in der XPS Analyse steht dabei für X-ray Photoelectron Spectroscopy und bezeichnet damit die röntgeninduzierte Photoelektronenspektroskopie.

Im Gegensatz zu der IR Spektroskopie ist es bei der XPS Analyse notwendig, dass bei der Probenuntersuchung ein Vakuum erzeugt wird. Nur so kann die Analyse der Energie der emittierten Photoelektronen erfolgen. Zur Erzeugung der Photoelektronen wird die Oberfläche mit weichen Röntgenstrahlen bestrahlt.

Grundsätzlich liegt die Informationstiefe der XPS Analyse bei wenigen Nanometern, sodass die Photoelektronenspektroskopie insbesondere dann anwendbar ist, wenn chemische Eigenschaften von Oberflächen ausschlaggebend sind. Dazu gehören beispielsweise Haftungsprobleme aber auch Verfärbungen und Fleckenbildung sowie die Analysen von Rückständen, Ausblühungen oder chemischen Vorbehandlungen (z.B. Aktivierung, Reinigung).

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